在半导体光刻设备领域，荷兰ASML公司长期占据主导地位，然而，日本光刻机巨头尼康正发起一场挑战，试图打破这一局面。尼康新任总裁兼首席执行官大村康宏近日宣布，公司计划通过低价策略，在氟化氩（ArF）光刻设备市场重新夺回客户。
大村康宏透露，尼康正在与多家美国和亚洲的大型芯片制造商就ArF光刻机的新订单进行深入谈判，部分磋商已进入签订采购合同的最后阶段。他指出，尼康的低价策略并非盲目降价，而是基于公司大量零部件自研自产的成本优势。
尼康此次瞄准的是ASML尚未形成绝对垄断的细分市场。在极紫外（EUV）光刻机领域，ASML的垄断地位难以撼动，但在技术更为成熟的深紫外（DUV）ArF浸没式光刻领域，3纳米芯片的大部分光刻制程仍依赖这类设备。ASML的高端ArF浸没式光刻机单台均价高达8250万美元，这为价格更低的竞争者提供了市场空间。
尼康的光刻设备业务目前正面临严峻挑战。根据最新财报，尼康在截至2026年3月31日的财年中，营收同比下滑5.3%，营业利润亏损1124.48亿日元，归母净利润亏损860.88亿日元，创下公司史上最差业绩。这一颓势主要受光刻设备订单低迷及金属3D打印业务表现不佳的拖累。
财报显示，2026财年尼康精密设备部门营收约1672亿日元，同比大跌18.9%。在光刻机出货量方面，2026财年上半年半导体光刻设备合计出货量仅9台，较上年同期减少1台。与此同时，ASML在全球光刻设备市场的份额超过80%，在ArF浸没式光刻领域的市场份额更是超过90%。
尼康的传统业务高度依赖英特尔这一大客户，后者曾贡献尼康ArF设备订单的80%。然而，随着英特尔自身陷入制造业务困境并削减开支，尼康的这一依赖关系反而成为其致命弱点。大村康宏承认，尼康尚未在其他客户中取得足够的业绩记录，其支持能力尚未赢得广泛信任。
为扭转局面，尼康宣布将于2028财年推出全新一代ArF浸没式光刻设备平台。该设备将搭载全新镜头与晶圆载台，并具备兼容ASML已投入使用设备的能力。这一兼容性策略旨在降低客户从ASML平台迁移至尼康平台的转换成本与风险。尼康的目标是将ArF浸没式光刻市场份额从目前的个位数提升至两位数。
尼康还计划在2026财年内出货首台新一代干式ArF光刻机“NSR-S333F”。大村康宏认为，随着AI热潮带动半导体设备需求激增，市场供应日趋紧张，芯片制造商为控制采购成本，也倾向于培育两家供应商而非单一依赖。
从市场格局来看，目前全球仅尼康与ASML两家企业能够量产ArF光刻设备。2025年，ASML共计出货48台EUV光刻机和131台浸没式DUV光刻机，年末手持订单积压额达388亿欧元。在这种供不应求的背景下，尼康以价格优势重新切入市场，确实具备一定的商业逻辑。
面对当前的困境，大村康宏还表示将对尼康进行战略收缩，聚焦于相机与半导体光刻设备两大核心业务板块，以此扭转亏损局面。分析人士指出，尼康选择在非最前沿的DUV市场与ASML展开价格战，是一条务实路径。重返EUV领域不仅需要巨额研发投入，且至少面临10年以上的技术代差。相比之下，ArF浸没式光刻设备虽然技术成熟，但由于AI芯片制造的规模扩张，其需求仍在持续攀升。
尽管尼康的雄心明确，但仅靠价格能否真正赢回客户仍有待观察。ASML凭借长期研发合作及独家供应尖端设备的优势，在技术上已遥遥领先。尼康需要证明的不仅是更低的价格，更是可靠的产品性能与完善的技术支持能力。尼康规划的2028财年的新平台距离量产尚有两年多时间，在此期间ASML可能进一步巩固其优势。对于一家正处于财务困境中的企业而言，这场价格战既是机遇，也是一场豪赌。
