南大光电（300346）作为中国半导体材料领域的领军企业，其发展历程堪称行业标杆。公司起源于南京大学科研成果转化平台，由被誉为“中国MO源之父”的孙祥祯教授于2002年创立。这位学术泰斗在退休后全身心投入企业运营，带领团队从单一MO源产品起步，逐步拓展至前驱体、电子特气和光刻胶三大核心业务板块，构建起完整的半导体材料产业生态。
现任董事长冯剑松自2017年加入后，主导实施了战略转型关键工程。在他的带领下，公司完成从MO源专业供应商向半导体材料综合平台的跨越式发展。财务数据显示，2024年实现营业收入23.52亿元，净利润2.71亿元；2025年前三季度营收已达18.84亿元，净利润突破3亿元大关。截至调研当日，公司总市值稳定在402亿元区间。
本次股东大会在苏州市工业园区平胜路67号总部举行，该区域距离市中心约25公里，需通过地铁换乘公交方可抵达。公司在苏州工业园区设有两个研发基地，同时在安徽滁州、内蒙古乌兰察布、浙江宁波和山东淄博布局了四大生产基地，形成覆盖长三角、华北、西北的产业网络。
会议采用线上线下结合方式，董事长冯剑松、职工董事茅炳荣、董秘周建峰等管理层现场参会，三位独立董事通过视频系统接入。包括机构投资者在内的6名中小股东到场，显示出市场对公司的高度关注。会议核心议题为审议16亿元闲置资金现金管理方案，该举措旨在提升资金使用效率，符合上市公司常规财务管理实践。
独立董事杨富华等提出补充建议，强调应细化资金投向披露标准，明确限定购买保本型金融产品。管理层对此表示认同，承诺将加强财务信息透明度建设。与会股东与董秘周建峰就光刻胶业务进展展开深入交流，虽受限于信息披露规范未能详述技术细节，但管理层对行业发展趋势作了专业解读。
在技术路线选择上，公司重点突破干式ArF光刻胶领域，其50吨产能生产线已于2025年在宁波基地试产，预计2026年全面达产。当前国内光刻胶市场呈现明显技术代差：KrF产品自给率相对较高，ArF成熟制程产品严重依赖进口，EUV先进制程则完全受制于人。公司研发团队规模已达300人，近三年研发投入维持在2亿元水平，在小品类产品上已达到国际先进水平。
管理层坦言，光刻胶业务面临双重挑战：既要持续提升技术纯度指标，又要通过客户验证流程获取订单。虽然日本厂商尚未实施断供措施，但其稳定的产品质量仍是国内芯片企业的首选。现阶段电子特气和前驱体业务的稳健增长，为公司技术攻坚提供了重要的利润支撑和研发保障。
